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井式真空清洗炉

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井式真空清洗炉

详细介绍

井式真空清洗炉


井式真空清洗炉

井式真空清洗炉适用于化纤行业的洗涤、锦纶和丙纶生产用的组件、喷丝板、过滤芯等清洁处理,也适用塑料挤出行业的模具清洁之用。
      该设备利用高分子聚合物在300°C左右时可熔融,高于300°C隔绝空气可裂解焦化,高于400°C在有少量空气并有一定真空度的环境中可完全氧化的特性,先将粘有高分子污物的工件加热到300°C(根据工艺要求拟定),使工件上数量较多的高分子聚合物溶化后流淌到炉膛下部的收集容器内,然后再将炉温升到400°C-500°C,同时打开真空泵,并通入少量新鲜空气,使剩余的聚合物充分氧化,生成的二氧化碳,经水喷淋后通过环式真空泵抽吸,和水一起排出炉外。

 温度曲线图

VBW4DTRIISTL3%R{L8_[MRQ.png

井式真空清洗炉均采用耐高温密封圈,不需水冷却保护,所以,该设备加热功率小,热效率高,升温速度快,温度均匀性好,加热器检查维修方便,较炉外带式加热器加热节电40%,节水60%,并且,克服了由于水冷却导致的炉内温度均匀性差,局部清洗效果不好等缺陷。

型号

炉膛尺寸
(长×宽×深)

外型尺寸
(长×宽×高)

使用工率:KW
加热/真空泵

真空度MPa

耗水量
m/ h

控温精度
± °C

LZKL-A

O500×600

2000×1800×2100

18 / 2.2

-0.07 - 0.085

0.23

2

LZKL-B

O600×800

2200×2000×2300

21 / 2.2

-0.07 - 0.085

0.23

2

LZKL-C

O800×1000

2600×2300×2500

27 / 3

-0.07 - 0.085

0.28

2

LZKL-D

O1000×1200

2800×2500×2700

32 / 4

-0.07 - 0.085

0.45

2

JZKL-A

600×400×400

1600×1200×1000

18 / 2.2

-0.07 - 0.085

0.23

2

JZKL-B

800×600×600

1800×1300×1100

21 / 3

-0.07 - 0.085

0.28

2

JZKL-C

1000×800×600

2100×1500×1300

27 / 3

-0.07 - 0.085

0.28

2

JZKL-D

1200×800×800

2100×1500×1600

32 / 4

-0.07 - 0.085

0.45

2

WZKL-A

O500×600

2000×1000×1300

18 / 2.2

-0.07 - 0.085

0.23

2

WZKL-B

O500×600

2400×1100×1600

21 / 2.2

-0.07 - 0.085

0.23

2

WZKL-C

O500×600

2600×1200×1800

27 / 3

-0.07 - 0.085

0.28

2

WZKL-D

O500×600

2800×1400×2000

32 / 4

-0.07 - 0.085

0.45

2

机电仪一体化设计,安装方便。炉体与控制柜一体,减少了设备占地面积,简化了设备现场安装工作量。利用工业用电梯的容积设备可方便地安装到指定位置而不必破坏现有建筑。该设备具有完整的自动化工作性能,只要对程序温度控制仪输入拟定的工作程序,设备即能进行自动化清洗工作,中途无需人工干预,并且有超温、缺项和断水或低水压报警功能。

 


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